習當局軟了北京一份清單暗示求饒？

2024年07月14日 12:32

中共在發展晶元生產自主自足時，面對西方制裁的壓力，一方面列舉了半導體產業面臨的挑戰，但據最近中國科協（CAST）列出的半導體產業挑戰項目中，光刻機顯然不在列舉項目，顯示中共根本無力製造先進光刻機，另外也是出於政治考量。

根據《電子時報亞洲版》（DigiTimes Asia）報導，中國排除研發光刻機更可能是出於政治考慮，希望淡化美國制裁對中國本土晶元製造的影響。這並非中國首次忽視光刻機技術，習近平曾告訴荷蘭首相，中國不需要先進的光刻機製造商ASML來推進中國自己的技術。目前，上海微電子裝備集團（SMEE）與北方華創科技計劃於2024年4月首次開發光刻機。

科技媒體《湯姆硬體》（Tom’s Hardware）報導指出，事實上，中國整個半導體晶元製造工具國產率僅為20%左右，而中國產的光刻設備比例不足1%，相較之下，荷蘭光刻機製造巨頭ASML的全球市場佔有率為93%。

極紫外光（EUV）光刻機對於建構下一代晶元至關重要，即使有公司可能在美國制裁前已獲得這類設備，但仍需要持續的維護和服務才能持續使用。除非中共在光刻機產業取得重大突破，否則這可能是中國科技公司生產高階晶元必須克服的最大障礙。

報導指出，即使中共相關組織將一項或多項技術排除在半導體挑戰清單之外，也無法改變中國半導體產業面臨挑戰的現實。中共需要數年，甚至數十年的研發才能趕上主流光刻機製造商。

因此，除非中共能夠神奇地製造出與ASML最新的高數值孔徑EUV相匹配的光刻機，否則將光刻機工具排除在中國半導體行業面臨的挑戰清單中，這可能是一種政治妥協下不得不的結果。

原文鏈接：習當局軟了北京一份清單暗示求饒？(圖)，來源：阿波羅網王篤然報道

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